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搁滨贰反应离子刻蚀机

所属分类：等离子刻蚀机

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产物参数

CIF推出搁滨贰反应离子刻蚀机，采用RIE反应离子诱导激发方式，实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀。特别适合于大学，科研院所、微电子、半导体公司实验室进行介质刻蚀、硅刻蚀、金属刻蚀等方面研究。使用成本低，性价比高，易维护，处理快速高效。适用于所有的基材及复杂的几何构形进行RIE反应离子刻蚀。

属性: 产物名称; 型号; 厂商性质; 访问量; 更新时间

详情: 搁滨贰反应离子刻蚀机; RIE200/plus; 生产厂家; 1213次; 2024-03-18

产物详情

CIF 推出 RIE 反应离子刻蚀机，采用 RIE 反应离子诱导激发方式，实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀。特别适合于大学、科研院所，微电子、半导体公司实验室进行介质刻蚀、硅刻蚀、金属刻蚀等方面研究。使用成本低，性价比高，易维护，处理快速高效。适用于所有的基材及复杂的几何构形进行 RIE 反应离子刻蚀。

具体包括：

◆ 介电材料（SiO2、SiNx 等）

◆ 硅基材料（Si，a-Si，poly Si）

◆ III-V 材料（GaAs、InP、GaN 等）

◆ 溅射金属（Au、Pt、Ti、Ta、W 等）

◆ 类金刚石（DLC）

应用领域：

主要用于微电子芯片、太阳能电池、生物芯片、显示器、光学、通讯等领域的器件研发和制造。