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  等离子清洗设备可广泛应用于半导体制造过程中。半导体制造涉及多个步骤，其中之一是可以清洁半导体设备表面，去除沉积物、有机物、灰尘等污染物，确保设备的质量和性能。等离子清洗设备可以利用等离子体产生的活性离子和化学反应，可以在非常小的尺度上进行清洗。